光栅，Wasatch Photonics光栅，LightSmyth光栅，透射光栅，反射光栅，全息光栅


	线阵CCD光纤光谱仪背照面CCD光纤光谱仪线阵PDA光纤光谱仪近红外光谱仪红外光谱仪荧光光谱仪线阵PbSe光谱仪光栅光谱仪双色散单色仪 HORIBA JY光谱仪和探测器地物光谱仪，地物波谱仪 Apogee (AIS) CCD探测器

光谱应用系统

激光器


	Menlo飞秒激光器 CrystaLaser激光器 CryLas激光器 CVI激光器小型红外连续可调激光器 Schafter Kirchhoff激光器 Coherent半导体激光器半导体激光器/窄线宽拉曼激光器 Nd:YAG脉冲激光器可调激光器OPO,钛宝石飞秒Yb:KYW激光器 PDLD VBG拉曼激光器多波长脉冲激光器 ALS Pilas皮秒激光器 Toptica超快光纤激光器 Denselight SLED和DFB

激光测量


	激光波长计积分球激光分析 Coherent激光功率计能量计 Dataray激光光束分析系统自相关仪 FJW红外观察仪 Batop可饱和吸收镜激光防护镜激光电流源控制器TEC 自适应光学元件可变形反射镜波前传感器超快激光镜片 EOT高速光电探测器 EOT光隔离器 WOP偏振转换片 Alphalas超快探测器可调波片 OKO薄膜变形镜压电变形镜波前传感器横河光谱分析仪光时域反射仪光波长计

宽带光源


	氘灯卤钨灯氘卤钨灯氙灯大功率光源 LED光源波长校准汞氩灯能量校准灯太阳能模拟器积分球均匀光源太阳能模拟器均匀光源氮化硅红外光源标准黑体

LED影像测量


	LED和OLED测量系统 LED光强测试系统灯具测试系统平面显示测量图像光度计 Brontes色度计高光谱成像系统光谱图像辐射计 Apogee (AIS) CCD探测器

光学附件

Thorlabs

Newport

Edmund

CVI

标准反射板

Zaber位移台


	太赫兹晶体太赫兹一体化系统实验室级太赫兹系统太赫兹图像系统太赫兹功率计自校正高灵敏太赫兹功率计太赫兹光电导天线太赫兹光学元件/偏振片 Terasense太赫兹相机线阵列太赫兹相机和发生器高功率太赫兹发生器 Nethis太赫兹显示卡 Tydex太赫兹镜片/偏振片/滤光片 INO太赫兹相机/镜头

滤光片

石墨烯纳米材料

LightSmyth光栅

Lightsmyth成立于2000年，致力于纳米产品的开发创新。2007年，lightsmyth的高性能衍射光栅在光通信、国防和生物科技市场中获得市场认可。直到今天，lightsmyth所提供的超过100多种优化的光栅产品广泛应用于各种领域。lightsmyth产品和创新是围绕全息衍射原理，通过结合先进的半导体模型工具如深紫外线（DUV）步进电机制造中的应用/扫描仪进行生产制造。

Lightsmyth是纳米光子学创新产品开发的领导者。创新包括超高效率的偏振不敏感光栅的电信产品线，硅基板等超低散射高质量功能先进的衍射光栅。

LightSmyth熔融石英和高强度介电薄膜生产透射光栅，采用业界当前先进投影光刻基板和和反应性离子蚀刻技术。这种高保真半导体制造方法使用专有衍射光栅设计，实现效率精确接近100％，线间距控制到百万分之一。综合量产制造的成本效益考虑，没有其他的光栅技术能够达到lightsmyth这种程度的性能。正因为对设计和技术的不懈追求，LightSmyth的光栅具有很宽的波长范围，并且可以调整入射角进一步得到更高性能。

高宽带高衍射效率
低偏振灵敏度
功能卓越，均匀刻线槽
仅采用熔融石英和高强度电介质，无聚合物
非常高的环境稳定性，通过Tellcordia质量认证
每个光栅均为母光栅：低散射，无重影
大的通光区域：直径可达140毫米
非常有竞争力的价格
严格的质量控制：通过ISO9001:2008质量体系认证

高级透射光栅（电信）-光通信高效率偏振无关透射光栅

透射光栅是使透射光形成光谱的光栅。LightSmyth高性价比透射光栅采用业界先进的设计和精确的光刻晶圆级制造技术，光学性能与低成本不断刷新纪录，为您的光学系统提供强大的竞争优势。高衍射效率，低PDL和极具竞争力的价格为您提供世界上高性价比的透射光栅。

LightSmyth光栅

Description	T-940-C	T-966-C	T-940-L	T-940-CL	Units
Groove Density	940.07	966.2	940.07	940.07	grooves/mm
Operational Wavelength Range	1526-1566 (C band)	1526-1566 (C band)	1570-1610 (L band)	1526-1610 (C+L band)	nm
Optimum Incidence Angle	46.5	48.3	48.4	47.5	degrees
Groove Density Uniformity	0.001	0.001	0.001	0.001	grooves/mm
Diffraction Efficiency (s- and p-polarization)	> 94	> 94	> 94	> 92	%
Polarization Dependent Loss	< 0.2	< 0.2	< 0.2	< 0.25	dB
Spectral Non-Uniformity	< 0.15	< 0.15	< 0.15	< 0.25	dB
Spatial PDL Non-Uniformity	< 0.1	< 0.1	< 0.1	< 0.1	dB

Type	Substrate Size	Clear Aperture	Part Number
C band, 940 grooves/mm	24 × 9 mm	23 × 8 mm	T-940C-2409-94
	24 × 14 mm	23 × 13 mm	T-940C-2414-94
C band, 966 grooves/mm	16 × 10 mm	15 × 9 mm	T-966C-1610-94
	27 × 10 mm	26 × 9 mm	T-966-C-2710-94
	24 × 16.4 mm	23 × 15.4 mm	T-966C-24x16.4-94
L band, 940 grooves/mm	27.4 × 10 mm	26.4 × 9 mm	T-940L-2710-94
C+L band, 940 grooves/mm	27.4 × 10 mm	26.4 × 9 mm	T-940CL-2710-92

高级反射光栅（电信）

LightSmyth使用电信级偏振分集光学设计和激光频率稳定技术生产高效率反射光栅。采用投影光刻和反应性离子蚀刻技术在硅单晶基底上金属化，以实现单极化的高效性能。每个光栅均设计为母光栅，而不是复制光栅，达到低散射光和持久性能目标。

单极化超高效率
采用高强度介电材料，不使用聚合物
每个光栅均是超低散射母光栅
高竞争力价格，Telcordia质量认证

Line Density	Size	Performance Grade	Part Number
1200 lines/mm	12.5 × 12.5 mm	High	SLG-C12-1212A-Au-HP
	25 × 25 mm	High	SLG-C12-2525A-Au-HP

标准反射光栅

每块光栅都是高性能的母板，不使用聚合物
超低成本（低于复制光栅）
免费复制/缺陷检测核定；超低散射
高强度单晶硅基板
近似于铜的热导率
高硼硅玻璃，减少热膨胀

Line Density (lines/mm)	λPE 1	Size	Part number
1200	580 nm (s), 1 μm to 1.55 μm (p)	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C12-1212A-Al
1200	580 nm (s), 1 μm to 1.55 μm (p)	25 mm × 25 mm	SLG-C12-2525A-Al
1200	580 nm (s), 1 μm to 1.55 μm (p)	50 mm × 30 mm 2	SLG-C12-5030A-Al
1800	390 nm (s), 660 nm to 1.0 μm (p)	20 mm × 9 mm 2	SLG-C18-2009A-Al
2400	300 nm (s),430 nm to 780 nm(p)	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C24-1212A-Al
3600	240 nm (s), 480 nm (p)	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C36-1212A-Al

X射线和深紫外光栅列表

Line Density (lines/mm)	Groove depth	Size	Part number
7200	50 nm	12.5 mm × 12.5 mm	SLG-C72-1212A-Au
7200	50 nm	25 mm × 25 mm	SLG-C72-2525A-Au
7200	50 nm	50 mm × 50 mm	SLG-C72-5050A-Au

脉冲压缩透射光栅

脉冲压缩光栅重要的性质是衍射效率高和低的波前变形，面向光栅的多通使用要求。激光脉冲压缩传输光栅基于LightSmyth破纪录的透射光栅平台。优化的线性P-偏振衍射效率在94％以上，它可以让我们的客户小化系统光学损耗，尤其面向高能激光器。

优点

对指定的偏振有特殊的衍射效率
宽带和低角度的敏感性特殊设计
超抛光石英基底使波前变形小化
使用熔融石英和高可靠介电材料
不使用聚合物或有机材料
每个光栅均为超低散射母光栅

Description	LSFSG-1000	T-1200-850	T-1500-875	T-1850-915s	T-1850-970s	T-1600-976s	T-1600-1060s	Units
Line Density	1000	1208.46	1503.76	1851.851	1851.851	1600	1600	l/mm
Operational Wavelength Range	1040±20	850±20	875±20	915±10	970±10	976±10	1060±20	nm
Optimum Angle of Incidence	31.0 ± 1	30.7 ±1	41.0 ±1	57.9±1	63.9±1	51.3±1	58.0±1	°
Line Density Uniformity (within grating)	0.001	0.001	0.001	0.001	0.001	0.001	0.001	l/mm
Optimal Polarization	any	any	any	S-	S-	S-	S-	nm
Diffraction Efficiency	> 94	> 94	> 94	> 93	> 93	> 94	> 94	%

Line Density	Wavelength, Polarization	Substrate Size 1, 2	Part Number
1000 lines/mm	1040 nm, any	31.8 × 12.3 mm	LSFSG-1000-3212-94
		31.8 × 24.8 mm	LSFSG-1000-3225-94
		130.0 × 12.3 mm	LSFSG-1000-13012-94
		130.0 × 20 mm	LSFSG-1000-13020-94
		up to 135 mm diameter	LSFSG-1000-cust
1200 lines/mm	850 nm, any	21.65 × 15.9 mm	T-1200-850-2216-94
		130.0 × 12.3 mm	T-1200-850-13012-94
		130.0 × 20 mm	T-1200-850-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1200-850-cust
1500 lines/mm	875 nm, any	24.8 × 15.9 mm	T-1500-875-2516-94
		130.0 × 12.3 mm	T-1500-875-13012-94
		130.0 × 20 mm	T-1500-875-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1500-875-cust
1850 lines/mm	915 nm, S	31.8 × 10.0 mm	T-1850-915s-3210-93
		31.8 × 20.2 mm	T-1850-915s-3220-93
		130.0 × 10.0 mm	T-1850-915s-13010-93
		130.0 × 20.2 mm	T-1850-915s-13020-93
		up to 135 mm diameter	T-1850-915s-cust
1850 lines/mm	970 nm, S	31.8 × 10.0 mm	T-1850-970s-3210-93
		31.8 × 20.2 mm	T-1850-970s-3220-93
		130.0 × 10.0 mm	T-1850-970s-13010-93
		130.0 × 20.2 mm	T-1850-970s-13020-93
		up to 135 mm diameter	T-1850-970s-cust
1600 lines/mm	976 nm, S	31.8 × 12.3 mm	T-1600-976s-3212-94
		40 × 10 mm	T-1600-976s-4010-94
		31.8 × 24.8 mm	T-1600-976s-3225-94
		130.0 × 12.3 mm	T-1600-976s-13012-94
		130.0 × 20 mm	T-1600-976s-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1600-976s-cust
1600 lines/mm	1060 nm, S	31.8 × 12.3 mm	T-1600-1060s-3212-94
		31.8 × 24.8 mm	T-1600-1060s-3225-94
		130.0 × 10 mm	T-1600-1060s-13010-94
		130.0 × 20 mm	T-1600-1060s-13020-94
		up to 135 mm diameter	T-1600-1060s-cust

Nanopatterned Silicon Stamps

LightSmyth提供种类繁多的纳米制造单结晶硅基底，为纳米光子学研究行业和学术机构提供了一个低成本应用的方案。可用于各种应用在光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、高分子材料研究、纳米、微流体和其他的基板。如果需要的话，可以在基板进行金属或介电材料镀膜。大多数截面型材的表面特征略呈梯形，有直线平行的台地和沟槽以及格状结构。可提供多种特征尺寸和沟槽深度。基板的SEM图像，可以在装运之前进行更新的确认。

Description	Value
Clear Aperture (CA)	0.5 mm from substrate edge (the pattern may extend to the edge of the substrate)
Substrate Thickness	0.675 ± 0.050 mm
Surface Quality in CA	P/N ends with "-P": 60/40 scratch/dig: 0.06 mm maximum scratch width, 0.4 mm maximum dig diameter. up to 20/10 specification may be provided at a premium
Surface Quality in CA	P/N ends with "-S": Discounted grade due to surface quality. Has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present
Surface Quality outside of CA	no requirements
Material	Single crystal silicon, reactive ion etch

线性纳米结构

Period	Groove depth	Duty cycle 1	Line width 2	Size 3	Part number
139 nm	50 nm	50%	69.5 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C72-1212-50-P
139 nm	50 nm	50%	69.5 nm	25×25×0.7 mm	SNS-C72-2525-50-P
278 nm	110 nm	50%	139 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C36-1212-110-S
416.6 nm	110 nm	50%	208 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C24-1212-110-P
500 nm	multiple	44%	220 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C20-0808-xxx-D45-P
500 nm	multiple	60%	300 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C20-0808-xxx-D60-P
555.5 nm	110 nm	50%	278 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-110-D50-P
555.5 nm	140 nm	50%	278 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-140-D50-P
555.5 nm	110 nm	29%	158 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-110-D29-P
555.5 nm	140 nm	29%	158 nm	20×9×0.7 mm	SNS-C18-2009-140-D29-P
600 nm	multiple	43%	260 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C16.7-0808-xxx-D45-P
600 nm	multiple	55%	330 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C16.7-0808-xxx-D55-P
606 nm	190 nm	50%	303 nm	29×12×0.7 mm	SNS-C16.5-2912-190-P
606 nm	190 nm	50%	303 nm	29×12×0.7 mm	SNS-C16.5-2912-190-S
606 nm	190 nm	50%	303 nm	29×24.2×0.7 mm	SNS-C16.5-2924-190-P
675 nm	170 nm	32%	218 nm	24×10×0.7 mm	SNS-C14.8-2410-170-P
675 nm	170 nm	32%	218 nm	24×30.4×0.7 mm	SNS-C14.8-2430-170-P
700 nm	multiple	47%	330 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C14.3-0808-xxx-D45-P
700 nm	multiple	55%	375 nm	8×8.3×0.7 mm	SNS-C14.3-0808-xxx-D55-P
833.3 nm	200 nm	50%	416 nm	12.5×12.5×0.7 mm	SNS-C12-1212-200-P
833.3 nm	200 nm	50%	416 nm	25×25×0.7 mm	SNS-C12-2525-200-P

2维纳米模板

Period	Lattice type	Groove depth	Feature width	Size	Part number
500 nm	rect post	multiple	135 nm	8×8.3×0.7 mm	S2D-24B1-0808-xxx-P
500 nm	rect post	multiple	210 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18B1-0808-xxx-P
600 nm	rect post	multiple	195 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24B2-0808-xxx-P
600 nm	rect post	multiple	275 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18B2-0808-xxx-P
700 nm	rect post	multiple	260 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24B3-0808-xxx-P
700 nm	rect post	multiple	350 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18B3-0808-xxx-P
500 nm	hex post	multiple	165 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18C1-0808-xxx-P
600 nm	hex post	multiple	165 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24C2-0808-xxx-P
600 nm	hex post	multiple	240 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18C2-0808-xxx-P
700 nm	hex post	multiple	220 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24C3-0808-xxx-P
700 nm	hex post	multiple	290 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18C3-0808-xxx-P
600 nm	hex hole	multiple	180 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24D2-0808-xxx-P
700 nm	hex hole	multiple	200 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-18D3-0808-xxx-P
700 nm	hex hole	multiple	290 nm	8×8.3×0.7mm	S2D-24D3-0808-xxx-P



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