硅晶电池片反射率仪

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石墨烯纳米材料
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R9000硅晶电池片反射率仪
太阳能领域全自动两维扫描反射率仪

通过反射率测量进行绒化控制
通过颜色和厚度测量进行减反射膜控制

硅晶电池片反射率仪

 

产品特点:

  • 膜层反射率、膜厚和颜色的离线测量
    用于研发,生产过程对镀膜工艺的质量控制
    设计人性化
    精确,重复性好
    性价比高
    具有全部知识产权,定制设计平台好
    检测速度快,检测工序简单

 

开机无需预热;测试同一块样品,节约工人时间50%以上;

连续测试样品,节约工人时间80%以上。

 

R9000系列设计精度更高,样品更加贴近积分球,测量的反射率更加准确。

硅晶电池片反射率仪

小提示:按照国际上通行的光谱测量标准(CIE),漫反射样品的反射率测量需要使用积分球。因此,要获得电池片绒面反射率的准确数据,需要使用积分球。积分球在使用中要求样品尽量贴近开口。样品离积分球开口越近,积分球收集到的光越多,反射率测量越准确。

高性价比和售后服务

同样价格更多实用配置和功能。
每台仪器都选用高质量零件,零件全检,系统出场前必须全部通过测试。
厂家随同仪器提供完整的技术资料和软件。
免费培训用户技术人员2人,并进行操作演示、技术咨询及数据处理等培训。
维修响应时间:卖方接到买方的维修通知后24-48小时迅速响应。
免费质保期内卖方负责所有因设备质量问题而产生的费用。
质保期后的服务后,提供终身维护服务,只按厂价收取所换的成本费,不收维护费。
国内设有物流中心,免去了购买进口产品不可避免的维修周期长的弊病和高关税。
自主研发,具有更大的自主改进和开行性,对不同的客户要求可以积极有效的响应。

 

R9000-2DMA自动图谱(Mapping)功能

-单块片子反射率并不均匀,传统反射率仪器只能测试某一点,多点测试靠人工移动,数据没有可比性。

-R9000 提供全自动多点扫描功能,让您更准确了解自己的产品情况

硅晶电池片反射率仪

 

R9000-2DMA应用

电池片(Cell/module) 减反工艺,优化及监控包括:
酸制绒工艺; 碱制绒工艺; SiNx 减反膜工艺; 复合减反膜工艺
EVA封装工艺; TiO2减反膜工艺; SiO2钝化工艺; 光伏(绒面)玻璃封装工艺

裸片和镀膜片测量裸片和镀膜片测量:
两维扫描(Mapping)
快速,操作方便
积分式、非接触

测量参数:
单点反射率
两维扫描反射率
电池片不均匀度
膜厚
色度(颜色)

产品组件:
两维全自动反射率仪R9000-2DMA
标准白参考瓦
标准镜面反射体
控制软件Morpho-R9MA
膜厚及色度分析软件
灯泡

用于检测所有相关硅片类型:
单晶硅片(抛光、粗糙、绒化)
多晶硅片(抛光、粗糙、绒化)
硅片尺寸:125x125 / 156x156 mm

 

反射率范围 0~100%
波长范围 360~1050nm / 250~1100nm
膜厚范围 (SiNx) 25~120nm
膜厚范围 (SiO2) 35~160nm
反射率精度 0.10%
反射率重复性 +/-0.2 %
膜厚精度 5 nm
颜色测量 Lab / XYZ / xyz
测量光斑直径 6 mm
测量速度 2秒/点
测量模式 积分球

 

现场使用情况

硅晶电池片反射率仪


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