硅晶电池片反射率仪

R9000硅晶电池片反射率仪
太阳能领域全自动两维扫描反射率仪

通过反射率测量进行绒化控制
通过颜色和厚度测量进行减反射膜控制

产品特点：

• 膜层反射率、膜厚和颜色的离线测量
  用于研发，生产过程对镀膜工艺的质量控制
  设计人性化
  精确，重复性好
  性价比高
  具有全部知识产权，定制设计平台好
  检测速度快，检测工序简单

开机无需预热；测试同一块样品，节约工人时间50%以上；

连续测试样品，节约工人时间80%以上。

R9000系列设计精度更高，样品更加贴近积分球，测量的反射率更加准确。

小提示：按照国际上通行的光谱测量标准（CIE），漫反射样品的反射率测量需要使用积分球。因此，要获得电池片绒面反射率的准确数据，需要使用积分球。积分球在使用中要求样品尽量贴近开口。样品离积分球开口越近，积分球收集到的光越多，反射率测量越准确。

高性价比和售后服务

同样价格更多实用配置和功能。
每台仪器都选用高质量零件，零件全检，系统出场前必须全部通过测试。
厂家随同仪器提供完整的技术资料和软件。
免费培训用户技术人员2人，并进行操作演示、技术咨询及数据处理等培训。
维修响应时间：卖方接到买方的维修通知后24-48小时迅速响应。
免费质保期内卖方负责所有因设备质量问题而产生的费用。
质保期后的服务后，提供终身维护服务，只按厂价收取所换的成本费，不收维护费。
国内设有物流中心，免去了购买进口产品不可避免的维修周期长的弊病和高关税。
自主研发，具有更大的自主改进和开行性，对不同的客户要求可以积极有效的响应。

R9000-2DMA自动图谱（Mapping）功能

-单块片子反射率并不均匀，传统反射率仪器只能测试某一点，多点测试靠人工移动，数据没有可比性。

-R9000 提供全自动多点扫描功能，让您更准确了解自己的产品情况

R9000-2DMA应用

电池片（Cell/module) 减反工艺，优化及监控包括：
酸制绒工艺； 碱制绒工艺； SiNx 减反膜工艺； 复合减反膜工艺
EVA封装工艺； TiO2减反膜工艺； SiO2钝化工艺； 光伏（绒面）玻璃封装工艺

裸片和镀膜片测量裸片和镀膜片测量:
两维扫描（Mapping）
快速，操作方便
积分式、非接触

测量参数：
单点反射率
两维扫描反射率
电池片不均匀度
膜厚
色度（颜色）

产品组件:
两维全自动反射率仪R9000-2DMA
标准白参考瓦
标准镜面反射体
控制软件Morpho-R9MA
膜厚及色度分析软件
灯泡

用于检测所有相关硅片类型:
单晶硅片（抛光、粗糙、绒化）
多晶硅片（抛光、粗糙、绒化）
硅片尺寸：125x125 / 156x156 mm

现场使用情况